九游娱乐广告:武汉新芯请求化学机械抛光办法及操控设备和操控办理体系专利可下降乃至脱节关于试生产的需求

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  国家知识产权局信息数据显现，武汉新芯集成电路股份有限公司请求一项名为“化学机械抛光办法及操控设备和操控办理体系”的专利，公开号CN121290255A，请求日期为2025年11月。

  专利摘要显现，本请求触及一种化学机械抛光办法、化学机械抛光操控设备和化学机械抛光操控办理体系。该化学机械抛光办法用于研磨抛光半导体晶圆。该办法有：根据猜测模型，获取方针参量，其间，方针参量表征猜测的半导体晶圆上的待抛光层的抛光厚度和抛光时长之间的联系；在同一预防性保护周期，响应于当时批次抛光为首批次抛光，根据方针参量和首批次抛光的方针抛光厚度，获取猜测首批次抛光时长；以及，根据猜测首批次抛光时长，对半导体晶圆中的待抛光层进行化学机械抛光处理。本请求经过构建方针参量，经过猜测模型猜测方针参量以获取猜测首批次抛光时长，可下降乃至脱节关于试生产的需求，以此来下降时刻和人工耗费。

  天眼查资料显现，武汉新芯集成电路股份有限公司，成立于2006年，坐落武汉市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本847900.6412万人民币。经过天眼查大数据分析，武汉新芯集成电路股份有限公司共对外出资了2家企业，参加招投标项目225次，产业线条，此外企业还具有行政许可106个。

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